日前，中国国家知识产权局副局长张茂于在京会见来访的美国应用材料公司副总裁邝锦安一行。
张茂于首先对邝锦安的来访表示欢迎，他指出，近年来中国政府更加重视知识产权保护，中国国家知识产权局着力构建知识产权大保护格局，将其作为实施创新驱动发展、促进经济转型的关键举措。
张茂于表示，中国国家知识产权局重视包括美国应用材料公司在内的全球知识产权用户的意见和建议，希望通过交流增进彼此的沟通和了解，并欢迎通过技术说明会的方式，促进相关领域审查员更好地了解相关领域的技术难点和发展动态，构建专利申请人与专利审查员之间的良性互动。
张茂于（右二）会见美国应用材料公司副总裁邝锦安一行
邝锦安高度赞赏中国知识产权发展取得的进展，对中国国家知识产权局开放积极的态度给予高度评价，同时介绍了应用材料公司在华专利申请情况，并表示愿意加强沟通，增进了解。
